清洗配方一

1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液，適用于鐵污染及碳酸鹽結晶污堵；

清洗配方二

0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，適用于清洗由有機物及活性生物引起的膜組件的污染；

清洗配方三

0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，適用于清洗由谷氨酸發(fā)酵液引起的膜組件的污染；

清洗配方四

1%甲醛溶液，適用于細菌污染的超濾；

清洗配方五

HNO3的0.5%水溶液，適用于電泳漆處理過程中磷酸鉛對膜組件造成的污堵（此清洗必須在其他常規(guī)化學清洗之后進行。）；

清洗配方六

20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用于膠體污染物造成的膜污染；

清洗配方七

9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉，清洗時需注意pH的控制，有些膜不適用于高pH清洗液的清洗，要慎重選擇，主要用于清洗含油廢水所造成的膜污染；